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第206章 为什么会定下那么离谱的研究目标?

就有一个疑问,不知当讲不当讲?”

林曦月莞尔一笑,她知道罗甘想问什么。

“罗所长是想问我为什么会想研究光刻机,或者说为什么我会将光刻机研究的目标定为3nm?”

说首白点,就是她有什么本事能将目标定的那么高。

罗甘被戳破也不觉得尴尬,从容一笑,“确实,罗某一首有这一个疑问,在见到林院士的时候,罗某更加想不通,还请林院士帮罗某解答一二。”

林曦月也没有对他遮掩什么,毕竟对方是光电所的所长,没必要遮掩。

她向严谨招招手,一旁的严谨从包里掏出一叠资料,在桌面上铺开。

“罗所长,请看,这是我们这段时间整理的资料。”林曦月翻开资料,一一的讲解。

“现在咱们国家主要引入的是DUV光刻机,也叫深紫外线光刻机,主要用于10-130nm芯片的制作,这也是因为DUV光刻机的技术相对成熟,所以即使霉国想剥夺我们的DUV自由,甚至多次提出相关的议案,都被这些公司给驳回。”

“光电所目前主要研究的也是DUV,但是这一次我们项目主要研究的是EUV光刻机,也叫极紫外线光刻机...”

罗甘原本想说咱们连DUV都研究不来呢,还想着研究EUV?

只是还没等他问出口,林曦月就让他稍安勿躁,接着往下听。

“EUV光刻与DUV光刻不同,它采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源...”

随着渐渐的听下去,罗甘的脸色越来越严肃,眼里也充满对林曦月的震惊。

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